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低压等离子设备

小型生产型等离子清洗机 NANO

产品说明:

18L——33.6L生产型等离子清洗机NANO可以组合成不同的模块系统。高性价比可满足各种材料的中小型生产。

应用领域:

主要应用于以下领域: 分析、 考古、汽车、研究和开发部门、半导体技术、小批量生产、塑料技术、医疗技术、微系统技术、传感技术、灭菌、纺织技术

  • 产品特点
  • 技术参数
  • 选配件

    设备:小型生产型等离子清洗机 NANO
    销售:021-31598236
    产品功能:

    清洗: 工艺部件的表面通过离子束的物理轰击而被清洗,也可与特定气体发生化学反应从而被清洗,清洗掉的工艺污染物转化为气相被排出。如:去除有机污染物,去除纳米级微粒,去除氧化层。

    活化:工艺部件表面通过氧气或空气处理后,会在表面形成氧原子团,这样能使部件表面亲水性和表面张力提高,能使涂料和粘接剂更好的附着于上,提高其的粘合力和附着力。如:PDMS键合,粘接前的预处理,涂装前的预处理,印刷前的预处理。


    蚀刻:工艺部件表面通过特定气体达到精确溅射,表面材料被剥离,转变成气相被排出,溅射后的材料表面积增大并更易湿润,也使材料表面更粗糙化。通过改变工艺参数可使材料表面蚀刻出一定的形状。 如:硅蚀刻,PTFE/PFA/FEP蚀刻,光刻胶去除。

    涂层:使工艺部件表面发生等离子聚合反应,前驱单体导入等离子真空腔室后使其电离并沉积至材料表面,随即发生聚合反应,形成聚合物层。如:疏水层,亲水层,保护/阻隔层,干润滑层,疏油层。
     


    主要技术参数 1、 手动控制
    2、根据工艺要求不同,可设定功率、压强、气体流量等参数
    3. 双路工作气体,气体流量通过针型阀流量计控制
    4. 反应舱为高硼硅玻璃材质,Φ 240mm、长 400 mm,容积18L
    5. 发生器频率100KHz功率0~500W
    6. 运行模式为手动
    7. 真空泵的排气能力为14 m3/Hour,原装进口干泵,Kashiyama
    8. *配有压力传感器,可根据工艺要求设定压力值
    9. 外尺寸:宽 560 mm、高 600-860 mm、深 600 mm
    10. 电源电压:单相AC230V 16A

    选配:
    控制系统: 全自动PCCE控制/全自动PC控制。
     
    气体:
    气体流量计MFC,多路气体
     
    腔体:
    圆形不锈钢,带盖(约 ∅ 267 mm,长 420 mm 或长 600 mm)
    矩形不锈钢,带铰链的门(约宽 240 mm x 高 240 mm x 深 420 mm 或 600 mm)
    矩形铝材,带铰链的门(约 ∅ 240 mm x 240 mm,长 420 mm 或长 600 mm)
    圆形石英玻璃 (UHP),配有盖子或者带铰链的门(约 ∅ 240 mm,长 400 mm 或长 600 mm)
    圆形硼硅玻璃 (UHP),配有盖子或者带铰链的门(约 ∅ 240 mm,长 400 mm 或长 600 mm)
     
    托盘:
    石英玻璃舟皿/粉末转鼓/散装件转鼓/铝板/不锈钢板/硼硅玻璃/石英玻璃/水冷型
     
    压力测量:
    Pirani/电容式压力计(适用于腐蚀性气体版本)
     
    发生器:
    100 kHz:0- 500 W 80 kHz:0- 1000 W 13.56 MHz: 0 - 100 W/300 W 2.45 GHz:0 - 600 W
     
    其他:
    ......

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