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低压等离子设备

等离子清洗机PICO

产品说明:

5L——10.6 L精密型等离子清洗机PICO可以组合成不同的模块系统,可以清洗所有类型的污染物及分解分子构成的残留污染物,增强材料表面的润湿性,是确保在 涂漆、粘接、印刷 或者 键合 时与结合配偶体 粘附 的前提条件。

应用领域:

PICO也可用于各向异性和各向同性蚀刻。通过化学蚀刻进行各向同性蚀刻,通过物理蚀刻进行各向异性蚀刻。使用低压等离子体,可以改良具有不同涂层的工件。

  • 产品特点
  • 技术参数
  • 选配件

    设备:等离子清洗机PICO
    销售:021-31598236
    产品功能:

    清洗: 工艺部件的表面通过离子束的物理轰击而被清洗,也可与特定气体发生化学反应从而被清洗,清洗掉的工艺污染物转化为气相被排出。 如:去除有机污染物,去除纳米级微粒,去除氧化层

    活化:工艺部件表面通过氧气或空气处理后,会在表面形成氧原子团,这样能使部件表面亲水性和表面张力提高,能使涂料和粘接剂更好的附着于上,提高其的粘合力和附着力。 如:PDMS键合,粘接前的预处理,涂装前的预处理,印刷前的预处理。


    蚀刻:工艺部件表面通过特定气体达到精确溅射,表面材料被剥离,转变成气相被排出,溅射后的材料表面积增大并更易湿润,也使材料表面更粗糙化。通过改变工艺参数可使材料表面蚀刻出一定的形状。如:硅蚀刻,PTFE/PFA/FEP蚀刻,光刻胶去除。


    涂层:使工艺部件表面发生等离子聚合反应,前驱单体导入等离子真空腔室后使其电离并沉积至材料表面,随即发生聚合反应,形成聚合物层。如:疏水层,亲水层,保护/阻隔层,干润滑层,疏油层。
     

    具体应用:
    • 去除部件封装(半导体)
    • 支架(牙医)
    • 心脏起搏器
    • 传感器
    • 精密驱动间
    • 车大灯反射镜
    • 摄像头
    • 医疗器械
     

    主要技术参数 1.半自动控制
    2.根据工艺要求不同,可设定功率、压强、气体流量等参数
    3.双路工作气体,气体流量通过针型阀流量计控制
    4.反应舱为高硼硅玻璃腔体,直径130mm 长300 mm ,容积约为5L
    5.发生器频率40KHz功率0~200W
    6.反射波自动调节
    7.电极材质为铝
    8.运行模式为手动
    9.配套真空泵的排气能力为4m3/Hour,配有强制进气阀,国产飞越真空泵
    10*配有压力传感器,可根据工艺要求设定压力值
    11.外尺寸:W560mm*D600mm*H460-860mm
    12.电源电压:单相AC230V 16A

    选配:
    控制系统: 全自动PCCE控制/全自动PC控制。

     
    气体:
    气体流量控制器MFC,多路气体
     
    腔体:
    圆形不锈钢,带盖(约 ∅ 150 mm,长 320 mm 或长 600 mm)
    矩形不锈钢,带铰链的门(约宽 160 mm x 高 160 mm x 深 325 mm 或 600 mm)
    矩形铝材,带铰链的门(约 ∅ 160 mm x 160 mm,长 325 mm 或长 600 mm)
    圆形石英玻璃 (UHP),配有盖子或者带铰链的门(约 ∅ 130 mm,长 300 mm 或长 600 mm)
    圆形硼硅玻璃 (UHP),配有盖子或者带铰链的门(约 ∅ 130 mm,长 300 mm 或长 600 mm)
     
    托盘:
    石英玻璃舟皿/粉末转鼓/散装件转鼓/铝板/不锈钢板/硼硅玻璃/石英玻璃 /水冷型
     
    压力测量:
    Pirani/电容式压力计(适用于腐蚀性气体版本)
     
    发生器:
    40 kHz: 0 - 200 W/0 -1000 W             100 kHz:0- 500 W              80 kHz:0- 1000 W              13.56 MHz:  0 - 100 W/ 300 W              2.45 GHz: 0 - 300 W
     
    其他:
    ......

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