硅片清洗作为制作光伏电池和集成电路的基础，是一个非常重要的步骤环节，清洗的干净与否直接影响到光伏电池和集成电路的性能、效率和稳定性。
那么硅片表面有什么东西需要清洗，又会在那些环境受到污染呢？
硅片是从硅棒上切割下来的，切割下来后硅片表面的多层晶格处于被破坏的状态，布满了不饱和的悬挂键，悬挂键的活性较高，十分容易吸附外界的杂质粒子，导致硅片表面被污染且性能变差。其中颗粒杂质会导致硅片的介电强度降低，金属离子会增大光伏电池P-N结的反向漏电流和降低寿命，有机化合物使氧化层的质量劣化，H2O会加剧硅表面的腐蚀。
硅片表面的杂质和有机物可以通过等离子清洗机来彻底去除。
等离子的清洗原理是 工艺部件的表面通过离子束的物理轰击而被清洗，也可与特定气体发生化学反应从而被清洗，清洗掉的工艺污染物转化为气相被排出。
这种干洗的清洗方法更为环保高效，且清洗时间仅需要几分钟。
等离子清洗机可根据硅片的吃尺寸定制量产的腔体，设备本身无耗材，使用年限可以达到至少十几年，是非常合适的性价比高的清洗硅片的选择。
